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市場調查報告書
商品編碼
1685129

原子層沉積 (ALD) 設備市場機會、成長動力、產業趨勢分析與 2025 - 2034 年預測

Atomic Layer Deposition (ALD) Equipment Market Opportunity, Growth Drivers, Industry Trend Analysis, and Forecast 2025 - 2034
出版日期: | 出版商: Global Market Insights Inc. | 英文 198 Pages | 商品交期: 2-3個工作天內

價格
簡介目錄

2024 年全球原子層沉積設備市場規模達 43 億美元，預計 2025 年至 2034 年期間複合年成長率將達到 10.6%。隨著世界繼續擁抱 5G、人工智慧 (AI) 和物聯網 (IoT) 等尖端技術，對半導體設備的需求激增，直接影響 ALD 設備市場。 ALD 技術對於製造先進的半導體元件至關重要，它可以提供精確、均勻的薄膜沉積，從而顯著提高裝置的性能和可靠性。對高效可靠半導體設備日益成長的需求，加上技術的不斷進步，確保了 ALD 設備市場在未來幾年將持續成長。

原子層沉積 (ALD) 設備市場 - IMG1

智慧型手機、物聯網設備和下一代運算技術的日益普及，對半導體產業 ALD 設備產生了強勁的需求。 ALD 能夠在薄膜沉積中提供原子級精度，這使得它成為現代電子製造中不可或缺的一部分。此外，隨著業界探索新技術並突破小型化的界限，ALD 在克服高性能設備生產的複雜挑戰方面的作用變得更加重要。全球對人工智慧和 5G 通訊等領域的日益關注進一步凸顯了 ALD 在確保生產用於這些應用的可靠、高性能設備方面發揮的關鍵作用。

市場範圍
起始年份 2024
預測年份 2025-2034
起始值 43億美元
預測值 117億美元
複合年成長率 10.6％

根據沉積方法，市場分為空間 ALD、熱 ALD、功率 ALD、等離子增強 ALD 等。到 2034 年，空間 ALD 領域預計將產生 45 億美元的收入。空間 ALD 因其在特定區域進行選擇性沉積的能力而脫穎而出，這使得它能夠有效地生產複雜設備。此方法提供了靈活性和精確度，這對於需要詳細材料放置的應用（例如先進封裝和微機電系統 (MEMS)）至關重要。

就應用而言，市場分為計算、消費性電子、資料中心、醫療保健和生物醫學、汽車以及能源和電力。計算行業預計將保持主導佔有率，到 2024 年將佔據 33.2% 的市場佔有率。對伺服器、遊戲系統和工作站等高效能運算設備的需求加速了 ALD 技術的採用。 ALD 能夠在半導體基板上精確沉積薄膜，從而提高設備性能、功率效率和整體功能，所有這些對於計算領域的擴展都至關重要。

預測期內，美國原子層沉積 (ALD) 設備市場預計將以 11.6% 的複合年成長率成長。美國市場受益於其先進的技術基礎設施、對創新的高度重視以及鼓勵採用下一代技術的有利監管框架。此外，隨著各領域對研發的投入不斷增加，對 ALD 技術的需求預計將加劇，進一步推動市場擴張。

目錄

第 1 章：方法論與範圍

  • 市場範圍和定義
  • 基礎估算與計算
  • 預測計算
  • 資料來源
    • 基本的
    • 次要
      • 付費來源
      • 公共資源

第 2 章：執行摘要

第 3 章：產業洞察

  • 產業生態系統分析
    • 影響價值鏈的因素
    • 利潤率分析
    • 中斷
    • 未來展望
    • 製造商
    • 經銷商
  • 供應商概況
  • 利潤率分析
  • 重要新聞及舉措
  • 監管格局
  • 衝擊力
  • 成長動力
    • 半導體裝置需求不斷成長
    • 3D NAND SSD 的快速普及
    • 半導體設計日益複雜
    • 材料特性意識不斷增強
    • 更加重視能源效率
  • 產業陷阱與挑戰
    • 材料相容性和整合性
    • 與 ALD 設備相關的高成本
  • 成長潛力分析
  • 波特的分析
  • PESTEL 分析

第4章：競爭格局

  • 介紹
  • 公司市佔率分析
  • 競爭定位矩陣
  • 戰略展望矩陣

第 5 章：市場估計與預測：按設備，2021 年至 2034 年

  • 主要趨勢
  • 間歇反應器
  • 單晶片反應器
  • 空間 ALD 反應器
  • 遠程等離子體 ALD 反應器

第 6 章：市場估計與預測：依沉積法，2021-2034 年

  • 主要趨勢
  • 等離子增強 ALD
  • 熱 ALD
  • 空間 ALD
  • 強力 ALD
  • 其他

第7章：市場估計與預測：依電影類型，2021-2034 年

  • 主要趨勢
  • 金屬薄膜
  • 氧化膜
  • 硫化膜
  • 氮化膜
  • 氟化膜

第 8 章：市場估計與預測：按應用，2021 年至 2034 年

  • 主要趨勢
  • 計算領域
  • 資料中心
  • 消費性電子產品
  • 醫療保健和生物醫學
  • 汽車
  • 能源與電力

第 9 章：市場估計與預測：按地區，2021 年至 2034 年

  • 主要趨勢
  • 北美洲
    • 美國
    • 加拿大
  • 歐洲
    • 英國
    • 德國
    • 法國
    • 義大利
    • 西班牙
    • 俄羅斯
  • 亞太地區
    • 中國
    • 印度
    • 日本
    • 韓國
    • 澳洲
    • 亞太其他地區
  • 拉丁美洲
    • 巴西
    • 墨西哥
    • 拉丁美洲其他地區
  • 中東及非洲
    • 南非
    • 沙烏地阿拉伯
    • 阿拉伯聯合大公國
    • MEA 其他地區

第10章：公司簡介

  • Aixtron SE
  • ANRIC Technologies
  • Applied Materials, Inc.
  • Arradiance, LLC
  • ASM International NV
  • Beneq Oy
  • Cambridge NanoTech
  • CVD Equipment Corporation
  • Entegris Inc.
  • Forge Nano Inc
  • Hitachi High-Technologies Corporation
  • Kurt J. Lesker Company
  • Lam Research Corporation
  • Meyer Burger
  • MSE Supplies LLC
  • Nano-Master, Inc.
  • Oxford Instruments plc
  • Picosun Oy
  • Radiation Monitoring Devices, Inc
  • SENTECH Instruments GmbH
  • SHOWA SHINKU CO., LTD.
  • SVT Associates
  • Tokyo Electron Limited
  • Veeco Instruments Inc
  • Watty Corporation
簡介目錄
Product Code: 8346

The Global Atomic Layer Deposition Equipment Market reached USD 4.3 billion in 2024 and is projected to grow at a robust CAGR of 10.6% from 2025 to 2034. As the world continues to embrace cutting-edge technologies like 5G, artificial intelligence (AI), and the Internet of Things (IoT), the demand for semiconductor devices has surged, directly impacting the ALD equipment market. ALD technology is essential for fabricating advanced semiconductor components, providing precise and uniform thin-film deposition that significantly enhances the performance and reliability of devices. This growing need for highly efficient and reliable semiconductor devices, coupled with continuous technological advancements, ensures that the ALD equipment market will see sustained growth in the coming years.

Atomic Layer Deposition (ALD) Equipment Market - IMG1

The increasing adoption of smartphones, IoT devices, and next-gen computing technologies has created a solid demand for ALD equipment in the semiconductor industry. ALD's ability to deliver atomic-scale precision in film deposition makes it indispensable for modern electronics manufacturing. Moreover, as industries explore new technologies and push the boundaries of miniaturization, the role of ALD becomes even more critical in overcoming the complex challenges of high-performance device production. The expanding global focus on sectors such as artificial intelligence and 5G communications further highlights ALD's pivotal role in ensuring the production of reliable, high-performance devices for these applications.

Market Scope
Start Year2024
Forecast Year2025-2034
Start Value$4.3 Billion
Forecast Value$11.7 Billion
CAGR10.6%

By deposition method, the market is segmented into spatial ALD, thermal ALD, power ALD, plasma-enhanced ALD, and others. The spatial ALD segment is expected to generate USD 4.5 billion through 2034. Spatial ALD stands out for its ability to perform selective deposition in specific regions, making it highly efficient for the production of complex devices. This method provides flexibility and precision critical for applications requiring detailed material placement, such as advanced packaging and microelectromechanical systems (MEMS).

In terms of application, the market is divided into computing, consumer electronics, data centers, healthcare and biomedical, automotive, and energy and power. The computing sector is poised to maintain a dominant share, accounting for 33.2% of the market in 2024. The demand for high-performance computing devices-such as servers, gaming systems, and workstations-has accelerated the adoption of ALD technology. ALD enables the precise deposition of thin films on semiconductor substrates, improving device performance, power efficiency, and overall functionality, all of which are vital for the computing sector's expansion.

The United States atomic layer deposition (ALD) equipment market is expected to grow at a CAGR of 11.6% during the forecast period. The U.S. market benefits from its advanced technological infrastructure, a strong focus on innovation, and favorable regulatory frameworks that encourage the adoption of next-gen technologies. Additionally, with increasing investments in research and development across various sectors, the demand for ALD technology is expected to intensify, further driving market expansion.

Table of Contents

Chapter 1 Methodology & Scope

  • 1.1 Market scope & definitions
  • 1.2 Base estimates & calculations
  • 1.3 Forecast calculations
  • 1.4 Data sources
    • 1.4.1 Primary
    • 1.4.2 Secondary
      • 1.4.2.1 Paid sources
      • 1.4.2.2 Public sources

Chapter 2 Executive Summary

  • 2.1 Industry synopsis, 2021-2034

Chapter 3 Industry Insights

  • 3.1 Industry ecosystem analysis
    • 3.1.1 Factor affecting the value chain
    • 3.1.2 Profit margin analysis
    • 3.1.3 Disruptions
    • 3.1.4 Future outlook
    • 3.1.5 Manufacturers
    • 3.1.6 Distributors
  • 3.2 Supplier landscape
  • 3.3 Profit margin analysis
  • 3.4 Key news & initiatives
  • 3.5 Regulatory landscape
  • 3.6 Impact forces
  • 3.7 Growth drivers
    • 3.7.1 Increasing demand for semiconductor devices
    • 3.7.2 Rapid proliferation of 3D NAND SSDs
    • 3.7.3 Rising complexity of semiconductor designs
    • 3.7.4 Surging awareness of material properties
    • 3.7.5 Heightened focus on energy efficiency
  • 3.8 Industry pitfalls & challenges
    • 3.8.1 Material compatibility and integration
    • 3.8.2 High costs related to ALD equipment
  • 3.9 Growth potential analysis
  • 3.10 Porter’s analysis
  • 3.11 PESTEL analysis

Chapter 4 Competitive Landscape, 2023

  • 4.1 Introduction
  • 4.2 Company market share analysis
  • 4.3 Competitive positioning matrix
  • 4.4 Strategic outlook matrix

Chapter 5 Market Estimates & Forecast, By Equipment, 2021-2034 (USD billion)

  • 5.1 Key trends
  • 5.2 Batch reactors
  • 5.3 Single-wafer reactors
  • 5.4 Spatial ALD reactors
  • 5.5 Remote plasma ALD reactors

Chapter 6 Market Estimates & Forecast, By Deposition Method, 2021-2034 (USD billion)

  • 6.1 Key trends
  • 6.2 Plasma enhanced ALD
  • 6.3 Thermal ALD
  • 6.4 Spatial ALD
  • 6.5 Power ALD
  • 6.6 Others

Chapter 7 Market Estimates & Forecast, By Film Type, 2021-2034 (USD billion)

  • 7.1 Key trends
  • 7.2 Metal film
  • 7.3 Oxide film
  • 7.4 Sulfide film
  • 7.5 Nitride film
  • 7.6 Fluoride film

Chapter 8 Market Estimates & Forecast, By Application, 2021-2034 (USD billion)

  • 8.1 Key trends
  • 8.2 Computing sector
  • 8.3 Data centers
  • 8.4 Consumer electronics
  • 8.5 Healthcare and biomedical
  • 8.6 Automotive
  • 8.7 Energy & power

Chapter 9 Market Estimates & Forecast, By Region, 2021-2034 (USD billion)

  • 9.1 Key trends
  • 9.2 North America
    • 9.2.1 U.S.
    • 9.2.2 Canada
  • 9.3 Europe
    • 9.3.1 UK
    • 9.3.2 Germany
    • 9.3.3 France
    • 9.3.4 Italy
    • 9.3.5 Spain
    • 9.3.6 Russia
  • 9.4 Asia Pacific
    • 9.4.1 China
    • 9.4.2 India
    • 9.4.3 Japan
    • 9.4.4 South Korea
    • 9.4.5 Australia
    • 9.4.6 Rest of Asia Pacific
  • 9.5 Latin America
    • 9.5.1 Brazil
    • 9.5.2 Mexico
    • 9.5.3 Rest of Latin America
  • 9.6 MEA
    • 9.6.1 South Africa
    • 9.6.2 Saudi Arabia
    • 9.6.3 UAE
    • 9.6.4 Rest of MEA

Chapter 10 Company Profiles

  • 10.1 Aixtron SE
  • 10.2 ANRIC Technologies
  • 10.3 Applied Materials, Inc.
  • 10.4 Arradiance, LLC
  • 10.5 ASM International NV
  • 10.6 Beneq Oy
  • 10.7 Cambridge NanoTech
  • 10.8 CVD Equipment Corporation
  • 10.9 Entegris Inc.
  • 10.10 Forge Nano Inc
  • 10.11 Hitachi High-Technologies Corporation
  • 10.12 Kurt J. Lesker Company
  • 10.13 Lam Research Corporation
  • 10.14 Meyer Burger
  • 10.15 MSE Supplies LLC
  • 10.16 Nano-Master, Inc.
  • 10.17 Oxford Instruments plc
  • 10.18 Picosun Oy
  • 10.19 Radiation Monitoring Devices, Inc
  • 10.20 SENTECH Instruments GmbH
  • 10.21 SHOWA SHINKU CO., LTD.
  • 10.22 SVT Associates
  • 10.23 Tokyo Electron Limited
  • 10.24 Veeco Instruments Inc
  • 10.25 Watty Corporation